Zusammenfassung
Hintergrund Die Qualität und die morphologischen Eigenschaften der Oberfläche einer Intraokularlinse
(IOL) können die Sehqualität beeinflussen. In dieser Studie wurden die Oberflächentopografie
sowie die Rauheit von 3 verschiedenen diffraktiven multifokalen OLs analysiert und
verglichen.
Methoden Mittels Rasterelektronenmikroskopie (REM, Inspect F, 5,0 kV, maximale Vergrößerung
bis zu 20 000) und Rasterkraftmikroskopie (auf Englisch: atomic force microscope [AFM],
Park Systems, XE-100, Nichtkontaktmodus, Vergleich des Oberflächenprofils, 10 × 10 µm,
40 × 40 µm) wurde die Oberflächenbeschaffenheit der folgenden diffraktiven IOLs untersucht:
AcrySof IQ PanOptix (Alcon, USA), AT LARA 829MP (Carl Zeiss Meditec, Deutschland)
und Tecnis Symfony (Johnson&Johnson Vision, USA). Die Messungen erfolgten bei jeder
IOL in folgenden 3 repräsentativen Bereichen: zentraler nicht diffraktiver Bereich,
zentraler diffraktiver Bereich und diffraktive Stufen. Die Rauheit in Bezug auf den
Mittenrauwert (Ra) und die quadratische Rauheit (Rq) wurde jeweils gemessen und statistisch verglichen.
Ergebnisse Bei der REM-Untersuchung mit geringer Vergrößerung zeigten alle IOLs eine glatte
optische Oberfläche ohne Unregelmäßigkeiten. Bei höherer Vergrößerung zeigte die Tecnis
Symfony einzigartige regelmäßige, konzentrische und lineare Strukturen im diffraktiven
Optikbereich, die in anderen untersuchten diffraktiven IOLs nicht zu sehen waren.
Die Unterschiede der gemessenen Ra- und Rq-Werte der Tecnis Symfony waren im Vergleich zu den anderen IOLs statistisch signifikant
(p < 0,05).
Schlussfolgerung In 3 diffraktiven multifokalen IOLs wurden verschiedene topografische Merkmale beobachtet.
Der Ra aller untersuchten IOLs lag in einem akzeptablen Bereich. Die Tecnis Symfony zeigte
hierbei statistisch signifikant höhere Ra-Werte sowohl im zentralen diffraktiven Bereich als auch im diffraktiven Stufenbereich.
Darüber hinaus zeigte die Tecnis Symfony im Vergleich zu den anderen Modellen hinsichtlich
der diffraktiven Oberflächen ein geordnetes, konzentrisches Muster.
Schlüsselwörter
Oberflächentopografie - Rauheit - Rasterelektronenmikroskop - Rasterkraftmikroskop
