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Aktuelle Urol 1982; 13(2): 71-73
DOI: 10.1055/s-2008-1062823
Originalarbeiten

© Georg Thieme Verlag, Stuttgart · New York

Siliziumdiffusion nach Hodenprothesen-implantation

Silicon-leak after Alloplastic Testicular ImplantH. Pflüger, H. Redl, H. Stachelberger, G. Syré
  • Urologische Universitätsklinik Wien (Vorstand: Prof. Dr. S. Rummelhardt)
  • Institut für Angewandte Botanik, Technische Mikroskopie und Organische Rohstofflchre der Technischen Universität Wien (Vorstand: Prof. Dr. E. Baucher)
  • Institut für Pathologische Anatomie (Vorstand: Prof. Dr. J. H. Holzner)
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Publikationsverlauf

Publikationsdatum:
23. April 2008 (online)

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Zusammenfassung

Mit Hilfe der Rasterelektronenmikroskopie und energiedispersiver Röntgenstrahlenanalyse konnte qualitativ und semiquantitativ Silizium in der periprothetischen Membran nach Hodenersatz mit Silastic® Prothese nachgewiesen werden.

Abstract

Scanning electron microscopy and EDXA (energy dispersive x-ray analysis) revealed silicon in tissue surrounding Silastic® testicular implant.

Key-Words:

Silicium - Testicular implants - Scanning electrone microscope - Energy dispersive x-ray analysis